Poudre de polissage en plaque d’alumine calcinée pour le meulage et le polissage de plaquettes
La poudre de polissage en alumine calcinée en plaques est un abrasif de précision haut de gamme spécialement conçu pour le meulage et le polissage chimico-mécanique (CMP) des plaquettes de semi-conducteurs. Contrairement aux abrasifs d’alumine angulaires traditionnels aux arêtes vives, ce produit présente une structure microscopique unique, lisse et en forme de plaquette, parfaitement adaptée à l’usinage ultra-fin de substrats fragiles et de haute précision tels que les plaquettes de GaAs, de silicium et de saphir. Il est devenu un matériau essentiel pour améliorer la finition de surface des plaquettes et le rendement de production dans l’industrie des semi-conducteurs.
La poudre de polissage en alumine calcinée en plaquettes est fabriquée à partir de poudre d’alumine industrielle de haute qualité, transformée selon un procédé de production spécifique. La forme cristalline de cette poudre est hexagonale plate, semblable à une plaquette, d’où son appellation d’alumine en plaquettes ou d’alumine tabulaire.
L’alumine en plaques présente une pureté supérieure à 99 % et se caractérise par une excellente résistance à la chaleur, à la corrosion acide et alcaline, ainsi qu’une dureté élevée. Contrairement aux particules abrasives sphériques traditionnelles, la surface inférieure de l’alumine plate est plane, ce qui permet aux particules d’épouser parfaitement la surface de la pièce à usiner lors du meulage. Ce procédé de meulage par glissement évite les rayures dues aux arêtes vives des particules. Par ailleurs, la pression de meulage est uniformément répartie sur la surface des particules, ce qui réduit leur risque de rupture et améliore leur résistance à l’usure, optimisant ainsi l’efficacité du meulage et la qualité de la finition de surface.
Pour les matériaux semi-conducteurs tels que les plaquettes de silicium, l’utilisation de plaques d’oxyde d’aluminium permet de réduire le temps de rectification, d’améliorer considérablement l’efficacité du processus, de limiter les pertes de la rectifieuse, de réaliser des économies de main-d’œuvre et de coûts de rectification, et d’augmenter le taux de réussite. La qualité obtenue est comparable à celle des grandes marques étrangères.
L’efficacité du travail de polissage de l’ampoule en verre du tube image est augmentée de 3 à 5 fois ;
Le taux de produits qualifiés augmente de 10 à 15 %, et le taux de produits qualifiés des plaquettes de semi-conducteurs atteint plus de 99 % ;
La consommation de broyage est de 40 à 40 % inférieure à celle de la poudre de polissage à l’alumine ordinaire ;
composition chimique
| Chimique | Valeur de garantie | Valeur typique |
| Al2O3 | ≥99,0% | 99,36% |
| SiO2 | <0,2% | 0,017% |
| Fe2O3 | <0,1% | 0,03% |
| Na2O | <0,6% | 0,35% |
propriétés physiques
| Matériel | α-Al2O3 |
| Couleur | Blanc |
| densité | ≥3,9 g/cm3 |
| Dureté de Mohs | 9.0 |
Tailles disponibles
| Taper | D3(um) | D50 (un) | D94 (um) |
| HXTA45 | 50,5-56,2 | 33-38,5 | 20,7-24,5 |
| HXTA40 | 39-44,6 | 27,7-31,7 | 18-20 |
| HXTA35 | 35,4-39,8 | 23,8-27,2 | 15-17 |
| HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
| HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
| HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
| HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5,8-6,8 |
| HXTA12 | 11.8-13.8 | 7,6-8,8 | 4,5-5,3 |
| HXTA09 | 8,9-10,5 | 5,9-6,9 | 3.3-3.9 |
| HXTA05 | 6,6-7,8 | 4.3-5.1 | 2,55-3,05 |
| HXTA03 | 4,8-5,6 | 2,8-3,4 | 1,5-2,1 |
application du produit
1) Industrie électronique : meulage et polissage de plaquettes de silicium monocristallin semi-conducteur, de cristaux de quartz, de semi-conducteurs composés (gallium cristallin, nano-phosphatation).
2) Industrie du verre : broyage et traitement du cristal, du verre de quartz, de l’écran en verre de la coque du kinescope, du verre optique, du substrat en verre pour écran à cristaux liquides (LCD) et du cristal de quartz.
3) Industrie des revêtements : revêtements spéciaux et charges pour la projection plasma.
4) Industrie de transformation des métaux et des céramiques : matériaux céramiques de précision, matières premières céramiques frittées, revêtements haute température de haute qualité, etc.
